プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97911 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.4→50.01 Å / Num. obs: 17989 / % possible obs: 96.3 % / 冗長度: 5 % / Biso Wilson estimate: 36.9 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.089 / Net I/σ(I): 10.4
反射 シェル
解像度: 2.4→2.55 Å / 冗長度: 4.9 % / Rmerge(I) obs: 0.392 / Mean I/σ(I) obs: 3.3 / % possible all: 91.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
AutoSol
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.4→50.01 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.931 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.907 / SU B: 11.434 / SU ML: 0.256 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.487 / ESU R Free: 0.29 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27238
848
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.23408
-
-
-
obs
0.23596
16402
95.89 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK