プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
1.1
1
2
1.28
1
3
1.3
1
反射
解像度: 1.8→50 Å / Num. obs: 35775 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 12.1 % / Rmerge(I) obs: 0.074 / Χ2: 0.74 / Net I/σ(I): 34.1
反射 シェル
解像度: 1.8→1.85 Å / 冗長度: 12.2 % / Rmerge(I) obs: 0.529 / Mean I/σ(I) obs: 3.81 / Num. unique obs: 413 / Χ2: 0.474 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0029
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
SHELXCD
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.8→41.88 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / SU B: 2.842 / SU ML: 0.087 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.131 / ESU R Free: 0.124 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21027
1616
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.17197
-
-
-
obs
0.17393
30215
95.29 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK