解像度: 2.74→29 Å / Num. obs: 43893 / % possible obs: 98.7 % / 冗長度: 7.6 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 25.5
反射 シェル
解像度: 2.75→2.8 Å / 冗長度: 7.6 % / Rmerge(I) obs: 0.597 / Mean I/σ(I) obs: 3 / Num. unique all: 2172 / % possible all: 98.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0107
精密化
HKL-2000
データスケーリング
PDB_EXTRACT
3.2
データ抽出
PHENIX
位相決定
HKL-2000
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.74→108.56 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.955 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.901 / SU B: 32.344 / SU ML: 0.306 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.402 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2588
1975
4.6 %
RANDOM
Rwork
0.1711
-
-
-
obs
0.1752
41291
96.34 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK