モノクロメーター: SI111 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.98 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.54→43.87 Å / Num. obs: 13592 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 4.6 % / Biso Wilson estimate: 56 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 8.7
反射 シェル
解像度: 2.54→2.6 Å / 冗長度: 4.4 % / Rmerge(I) obs: 0.68 / Mean I/σ(I) obs: 1.9 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
iMOSFLM
データ削減
Aimless
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 2.54→43.87 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.944 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.941 / SU B: 31.237 / SU ML: 0.311 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 1.18 / ESU R Free: 0.31 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24642
676
5 %
RANDOM
Rwork
0.21544
-
-
-
obs
0.21708
12828
99.77 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK