プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97952 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.92→50 Å / Num. obs: 27216 / % possible obs: 97.9 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 10.7 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 41.2
反射 シェル
解像度: 1.92→1.95 Å / 冗長度: 6.7 % / Rmerge(I) obs: 0.35 / Mean I/σ(I) obs: 4.3 / % possible all: 99.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.92→54.03 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.912 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.87 / SU B: 4.323 / SU ML: 0.128 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.202 / ESU R Free: 0.183 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27983
1288
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.23156
-
-
-
obs
0.23399
24829
95.93 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK