プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.92819 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→55.2 Å / Num. obs: 32830 / % possible obs: 96.2 % / Observed criterion σ(I): -4 / 冗長度: 6.2 % / Rmerge(I) obs: 0.14 / Net I/σ(I): 8.6
反射 シェル
解像度: 1.7→1.79 Å / 冗長度: 6 % / Rmerge(I) obs: 0.84 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 96.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0107
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.7→55.23 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.934 / SU B: 7.044 / SU ML: 0.1 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.295 / ESU R Free: 0.125 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2254
1676
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.17164
-
-
-
obs
0.17447
30992
95.53 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK