解像度: 1.78→37.54 Å / Num. obs: 18999 / % possible obs: 99.3 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 6.34 % / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 10.78
反射 シェル
解像度: 1.78→1.88 Å / 冗長度: 6.14 % / Rmerge(I) obs: 0.51 / Mean I/σ(I) obs: 2.4 / % possible all: 96.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
XDS
データ削減
SADABS
データスケーリング
SHELXCD
位相決定
SHELXD
位相決定
SHELXE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.76→37.54 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.963 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / SU B: 2.658 / SU ML: 0.086 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.029 / ESU R Free: 0.026 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21647
913
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.18501
-
-
-
obs
0.18645
18034
96.48 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK