プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.933 Å / 相対比: 1
Reflection twin
Crystal-ID
ID
Operator
Domain-ID
Fraction
1
1
H, K, L
1
0.68
1
1
-H, K, -L
2
0.32
反射
解像度: 2.5→94.9 Å / Num. obs: 19841 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 2.1 % / Rmerge(I) obs: 0.092 / Net I/σ(I): 9.1
反射 シェル
解像度: 2.5→2.6 Å / Rmerge(I) obs: 0.26 / Mean I/σ(I) obs: 4.2 / % possible all: 99.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.48→42.46 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.938 / SU B: 8.583 / SU ML: 0.202 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.188 / ESU R Free: 0.058 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2245
993
5 %
RANDOM
Rwork
0.18724
-
-
-
obs
0.18891
19064
99.67 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK