プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5419 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.68→50 Å / Num. obs: 8466 / % possible obs: 98 % / 冗長度: 11.6 % / Net I/σ(I): 24.31
反射 シェル
解像度: 1.68→1.71 Å / 冗長度: 2.1 % / Mean I/σ(I) obs: 3.756
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-3000
データ削減
精密化
解像度: 1.68→32.13 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / SU B: 2.23 / SU ML: 0.073 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.105 / ESU R Free: 0.103 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22699
390
4.7 %
RANDOM
Rwork
0.19749
-
-
-
obs
0.19884
7910
96.55 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK