プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.5→45 Å / Num. obs: 89458 / % possible obs: 95.9 % / 冗長度: 3.1 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 14
反射 シェル
解像度: 1.5→1.6 Å / Rmerge(I) obs: 0.53 / % possible all: 94.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.5→15 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.977 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.969 / SU B: 2.323 / SU ML: 0.038 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.074 / ESU R Free: 0.062 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16393
4473
5 %
RANDOM
Rwork
0.1324
-
-
-
obs
0.13397
84984
96.07 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK