プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9785 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.01→40 Å / Num. obs: 91540 / % possible obs: 98 % / 冗長度: 9.8 % / Net I/σ(I): 15.1
反射 シェル
解像度: 2.01→2.05 Å / 冗長度: 5.6 % / Mean I/σ(I) obs: 0.9 / % possible all: 67.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 2.01→40 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.972 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.952 / SU B: 12.864 / SU ML: 0.159 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.19 / ESU R Free: 0.165 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22123
4812
5 %
RANDOM
Rwork
0.17577
-
-
-
obs
0.17805
91540
97.75 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK