プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.127 Å / 相対比: 1
Reflection twin
Crystal-ID
ID
Operator
Domain-ID
Fraction
1
1
H, K, L
1
0.506
1
1
-H, L, K
2
0.494
反射
解像度: 2.8→49 Å / Num. obs: 82234 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 6.7 % / Rmerge(I) obs: 0.13 / Net I/σ(I): 12.6
反射 シェル
解像度: 2.8→8.85 Å / 冗長度: 6.8 % / Rmerge(I) obs: 0.69 / Mean I/σ(I) obs: 2.5 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
SCALA
データスケーリング
SCALEPACK
データスケーリング
XDS
データ削減
精密化
解像度: 2.8→49 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.918 / SU B: 9.362 / SU ML: 0.185 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.159 / ESU R Free: 0.068 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24568
4119
5 %
RANDOM
Rwork
0.2179
-
-
-
obs
0.2193
78027
99.9 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK