プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97916 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→19.96 Å / Num. obs: 22947 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 6.63 % / Rmerge(I) obs: 0.056 / Net I/σ(I): 19.19
反射 シェル
解像度: 1.8→1.91 Å / 冗長度: 6.52 % / Rmerge(I) obs: 0.301 / Mean I/σ(I) obs: 5.42 / % possible all: 99
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0071
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.8→19.96 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.948 / SU B: 2.063 / SU ML: 0.064 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.095 / ESU R Free: 0.097 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19902
1039
4.5 %
RANDOM
Rwork
0.16431
-
-
-
obs
0.16585
21860
99.48 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK