プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97949 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.4→54.26 Å / Num. obs: 11265 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 19.2 % / Biso Wilson estimate: 32.306 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.057 / Net I/σ(I): 44.4
反射 シェル
解像度: 2.4→2.46 Å / 冗長度: 19.4 % / Rmerge(I) obs: 0.492 / Mean I/σ(I) obs: 6.6 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 / 解像度: 2.4→54.26 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.94 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.925 / SU B: 13.018 / SU ML: 0.157 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.282 / ESU R Free: 0.217 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23774
537
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.2051
-
-
-
obs
0.20669
10708
99.73 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK