プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9184 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.44→50 Å / Num. obs: 20319 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 6.8 % / Biso Wilson estimate: 68.3 Å2 / Rsym value: 0.088 / Net I/σ(I): 13.5
反射 シェル
解像度: 2.44→2.5 Å / 冗長度: 6.6 % / Mean I/σ(I) obs: 1.3 / Rsym value: 1.298 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0107
精密化
XDS
XDSAPP
データ削減
XDS
XDSAPP
データスケーリング
SHELX
位相決定
PHENIX
モデル構築
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.44→46.08 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.953 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.909 / SU B: 29.698 / SU ML: 0.301 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.346 / ESU R Free: 0.281 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.28717
1620
7.4 %
RANDOM
Rwork
0.22092
-
-
-
obs
0.22566
20319
99.94 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK