プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.8→30 Å / Num. obs: 7897 / % possible obs: 96.3 % / 冗長度: 5.5 % / Rsym value: 0.06 / Net I/σ(I): 43
反射 シェル
解像度: 2.8→2.9 Å / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.31 / Mean I/σ(I) obs: 4 / % possible all: 94.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0029
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.8→29.77 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.935 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.921 / SU B: 33.979 / SU ML: 0.318 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 1.688 / ESU R Free: 0.376 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26629
366
4.6 %
RANDOM
Rwork
0.22991
-
-
-
obs
0.2316
7531
96.43 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK