モノクロメーター: SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97915 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.28→30 Å / Num. obs: 21336 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 8 % / Rmerge(I) obs: 0.095 / Net I/σ(I): 23.65
反射 シェル
解像度: 2.28→2.32 Å / 冗長度: 8.1 % / Rmerge(I) obs: 0.977 / Mean I/σ(I) obs: 2.31 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.28→29.1 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.959 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.935 / SU B: 13.095 / SU ML: 0.173 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.307 / ESU R Free: 0.222 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23263
1095
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18394
-
-
-
obs
0.18634
20169
99.42 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK