プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.99 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→50 Å / Num. obs: 16778 / % possible obs: 98.5 % / 冗長度: 5.4 % / Net I/σ(I): 9.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
HKL-2000
位相決定
精密化
解像度: 2.2→30.4 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.945 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.915 / SU B: 4.992 / SU ML: 0.125 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.182 / ESU R Free: 0.179 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24724
729
5 %
RANDOM
Rwork
0.19118
-
-
-
obs
0.19393
13851
98.98 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK