プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97921 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→30 Å / Num. obs: 26788 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 7.1 % / Net I/σ(I): 27.1
反射 シェル
解像度: 1.9→1.95 Å / 冗長度: 7.1 % / Rmerge(I) obs: 0.437 / Mean I/σ(I) obs: 3 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
解像度: 1.9→24.1 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.935 / SU B: 4.041 / SU ML: 0.119 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.163 / ESU R Free: 0.165 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24672
1344
5 %
RANDOM
Rwork
0.17599
-
-
-
obs
0.17952
25336
99.9 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK