プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.85→30 Å / Num. obs: 35195 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 10 % / Net I/σ(I): 28.7
反射 シェル
解像度: 1.85→1.92 Å / 冗長度: 7.1 % / % possible all: 99.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0029
精密化
HKL-2000
dataprocessing
Coot
モデル構築
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.85→28.33 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.936 / SU B: 6.63 / SU ML: 0.088 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.186 / ESU R Free: 0.127 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23443
1755
5 %
RANDOM
Rwork
0.18842
-
-
-
obs
0.19094
33261
99.88 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK