プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.61→50 Å / Num. obs: 102998 / % possible obs: 99 % / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 34.4
反射 シェル
解像度: 1.61→1.64 Å / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.322 / Mean I/σ(I) obs: 5.9 / % possible all: 99.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.61→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.972 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.965 / SU B: 1.393 / SU ML: 0.049 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.08 / ESU R Free: 0.077 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17532
5069
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.15378
-
-
-
obs
0.15482
97906
98.33 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK