プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.9→50.01 Å / Num. obs: 126662 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 5.9 % / Rmerge(I) obs: 0.094 / Net I/σ(I): 57.4
反射 シェル
解像度: 2.9→3 Å / 冗長度: 12.7 % / Rmerge(I) obs: 0.407 / Mean I/σ(I) obs: 9.1 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
HKL-2000
dataprocessing
SCALA
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
解像度: 2.9→50.01 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.929 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.874 / SU B: 18.098 / SU ML: 0.335 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.438 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24597
6657
5 %
RANDOM
Rwork
0.18497
-
-
-
obs
0.18802
125831
99.22 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK