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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 4wo3 | |||||||||||||||||||||||||||||||
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タイトル | THE SECOND C-KIT DNA QUADRUPLEX CRYSTAL STRUCTURE | |||||||||||||||||||||||||||||||
![]() | DNA (5'-D(*![]() DNA / DNA G-QUADRUPLEX / C/kit | 機能・相同性 | : / DNA / DNA (> 10) | ![]() 生物種 | ![]() 手法 | ![]() ![]() ![]() ![]() Wei, D. / Neidle, S. | 資金援助 | | ![]()
![]() ![]() タイトル: THE SECOND C-KIT1 DNA QUADRUPLEX CRYSTAL STRUCTURE 著者: Wei, D. / Neidle, S. 履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 34.3 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 24.6 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 381.4 KB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 381.9 KB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 3.3 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 4 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
関連構造データ | ![]() 3qxrS S: 精密化の開始モデル |
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類似構造データ |
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 | ![]()
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2 | ![]()
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単位格子 |
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要素
#1: DNA鎖 | 分子量: 7028.515 Da / 分子数: 2 / 由来タイプ: 合成 / 詳細: THIS SEQUENCE OCCURS NATURALLY IN HUMANS. / 由来: (合成) ![]() #2: 化合物 | ChemComp-K / #3: 水 | ChemComp-HOH / | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 1.87 Å3/Da / 溶媒含有率: 34.22 % |
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結晶化 | 温度: 283 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 6.5 詳細: 10% MPD, 10 MM MAGNESIUM CHLORIDE, 50 MM POTASSIUM CHLORIDE, AND 50 MM SODIUM CACODYLATE AT PH 6.5, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, TEMPERATURE 283K PH範囲: 6.5 |
-データ収集
回折 | 平均測定温度: 105 K |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: OXFORD ONYX CCD / 検出器: CCD / 日付: 2012年7月28日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.9686 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 2.73→28.48 Å / Num. obs: 2439 / % possible obs: 94.4 % / 冗長度: 2.6 % / Rmerge(I) obs: 0.115 / Net I/σ(I): 5 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]() 開始モデル: 3QXR 解像度: 2.73→28.48 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.901 / SU B: 16.663 / SU ML: 0.317 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.428 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 42.002 Å2
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精密化ステップ | サイクル: 1 / 解像度: 2.73→28.48 Å
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拘束条件 |
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