プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.24→102.12 Å / Num. all: 41863 / Num. obs: 41863 / % possible obs: 96.1 % / 冗長度: 3.2 % / Rmerge(I) obs: 0.089 / Net I/σ(I): 10.2
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
2.5 Å
28.19 Å
Translation
2.5 Å
28.19 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
StructureStudio
データ収集
d*TREK
データ削減
d*TREK
2.3.0
データスケーリング
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.14
データ抽出
PHASER
位相決定
d*TREK
データ削減
d*TREK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.24→102.12 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.949 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.929 / WRfactor Rfree: 0.1758 / WRfactor Rwork: 0.1433 / FOM work R set: 0.8851 / SU B: 5.433 / SU ML: 0.134 / SU R Cruickshank DPI: 0.3203 / SU Rfree: 0.207 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.32 / ESU R Free: 0.207 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT U VALUES : REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2099
2023
5 %
RANDOM
Rwork
0.1698
38194
-
-
obs
0.1719
40217
96.05 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK