A: DNA 9mer novel Z nucleobase B: DNA 9mer novel P nucleobase C: DNA 9mer novel Z nucleobase D: DNA 9mer novel P nucleobase E: DNA 9mer novel Z nucleobase F: DNA 9mer novel P nucleobase G: DNA 9mer novel Z nucleobase H: DNA 9mer novel P nucleobase ヘテロ分子
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.98 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→87.05 Å / Num. all: 37813 / Num. obs: 37630 / % possible obs: 99.5 %
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
REFMAC
5.8.0069
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.7→87.05 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.923 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.935 / SU B: 0.007 / SU ML: 0 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.08 / ESU R Free: 0.081 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22649
1890
5 %
RANDOM
Rwork
0.22344
-
-
-
obs
0.22361
35787
99.63 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK