D res high: 2 Å / D res low: 50 Å / FOM : 0 / FOM acentric: 0.497 / FOM centric: 0 / 反射: 0 / Reflection acentric: 18792 / Reflection centric: 0
Phasing MAD set
R cullis centric: 0 / 最高解像度: 2 Å / 最低解像度: 50 Å / Loc centric: 0 / Power centric: 0 / Reflection centric: _
ID
R cullis acentric
Loc acentric
Power acentric
Reflection acentric
1
1.32
0.1
0
18792
2
0.94
3.7
0.75
18707
Phasing MAD set shell
R cullis centric: 0 / Loc centric: 0 / Power centric: 0 / Reflection centric: _
ID
解像度 (Å)
R cullis acentric
Loc acentric
Power acentric
Reflection acentric
1
12.5-50
1.11
0.2
0
42
1
7.14-12.5
1.24
0.2
0
298
1
5-7.14
1.28
0.2
0
794
1
3.85-5
1.04
0.2
0
1441
1
3.13-3.85
1.03
0.1
0
2276
1
2.63-3.13
1.43
0.1
0
3361
1
2.27-2.63
1.7
0.1
0
4555
1
2-2.27
1.91
0
0
6025
2
12.5-50
1.05
19.3
0.42
41
2
7.14-12.5
1.01
10.4
0.84
284
2
5-7.14
0.91
7.3
1.01
779
2
3.85-5
0.94
6.8
0.83
1408
2
3.13-3.85
0.92
5.3
0.8
2260
2
2.63-3.13
0.91
3.5
0.83
3355
2
2.27-2.63
0.93
2.7
0.71
4555
2
2-2.27
0.98
2.3
0.52
6025
Phasing MAD set site
Atom type symbol: Se
ID
B iso
Fract x
Fract y
Fract z
Occupancy
Occupancy iso
1
32.0739
-0.004
-0.044
-0.125
5.638
0
2
35.9926
-0.395
0.278
-0.254
5.085
0
3
37.6005
-0.004
-0.044
-0.126
4.241
-0.148
4
37.8912
-0.395
0.278
-0.254
3.558
-0.126
Phasing MAD shell
解像度 (Å)
FOM
FOM acentric
FOM centric
反射
Reflection acentric
Reflection centric
12.5-50
0
0.212
0
1484
42
0
7.14-12.5
0
0.37
0
298
0
5-7.14
0
0.624
0
5349136
794
0
3.85-5
0
0.52
0
1441
0
3.13-3.85
0
0.553
0
2276
0
2.63-3.13
0
0.587
0
3361
0
2.27-2.63
0
0.533
0
1053855744
4555
0
2-2.27
0
0.386
0
10980
6025
0
Phasing dm
手法: Solvent flattening and Histogram matching / 反射: 28121
Phasing dm shell
解像度 (Å)
Delta phi final
FOM
反射
6.43-100
53.8
0.832
501
5.18-6.43
41.3
0.93
508
4.55-5.18
46.1
0.943
522
4.1-4.55
46.4
0.947
588
3.76-4.1
50.2
0.949
630
3.5-3.76
51.6
0.952
692
3.28-3.5
45.6
0.948
736
3.1-3.28
49.3
0.941
798
2.95-3.1
45
0.943
824
2.82-2.95
45.7
0.942
870
2.7-2.82
45.1
0.938
940
2.6-2.7
44.1
0.936
915
2.5-2.6
46.5
0.942
1015
2.42-2.5
47
0.94
1018
2.35-2.42
47.6
0.937
1045
2.28-2.35
50.4
0.934
1085
2.21-2.28
52
0.933
1137
2.16-2.21
51.5
0.927
1148
2.1-2.16
54.8
0.924
1217
2.05-2.1
58.7
0.925
1207
2.01-2.05
60
0.914
1238
1.96-2.01
85.7
0.919
1270
1.92-1.96
88.7
0.91
1286
1.88-1.92
90.9
0.881
1302
1.85-1.88
91
0.872
1376
1.81-1.85
88.6
0.859
1389
1.78-1.81
92.3
0.781
1363
1.75-1.78
90
0.612
1501
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
MLPHARE
位相決定
直接法
6.1
位相決定
REFMAC
5.8.0073
精密化
PDB_EXTRACT
3.15
データ抽出
SBC-Collect
データ収集
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
SHELXD
位相決定
SHELXE
モデル構築
SOLVE
位相決定
RESOLVE
位相決定
ARP/wARP
モデル構築
CCP4
位相決定
O
モデル構築
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.75→29.31 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.957 / WRfactor Rfree: 0.2094 / WRfactor Rwork: 0.1752 / FOM work R set: 0.9094 / SU B: 4.086 / SU ML: 0.067 / SU R Cruickshank DPI: 0.1062 / SU Rfree: 0.1025 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.106 / ESU R Free: 0.102 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1976
1421
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1665
-
-
-
obs
0.1681
26698
99.65 %
-
all
-
26698
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK