解像度: 1.48→25.49 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.946 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.916 / SU B: 4.432 / SU ML: 0.08 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / σ(I): 0 / ESU R: 0.021 / ESU R Free: 0.021 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25546
994
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21906
-
-
-
all
0.22086
19398
-
-
obs
0.22086
18400
93.13 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK
原子変位パラメータ
Biso mean: 25.861 Å2
Baniso -1
Baniso -2
Baniso -3
1-
2.57 Å2
0 Å2
0 Å2
2-
-
2.57 Å2
0 Å2
3-
-
-
-5.15 Å2
精密化ステップ
サイクル: LAST / 解像度: 1.48→25.49 Å
タンパク質
核酸
リガンド
溶媒
全体
原子数
944
0
25
204
1173
拘束条件
Refine-ID
タイプ
Dev ideal
Dev ideal target
数
X-RAY DIFFRACTION
r_bond_refined_d
0.013
0.02
992
X-RAY DIFFRACTION
r_angle_refined_deg
2.032
2.016
1332
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_1_deg
7.04
5
113
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_2_deg
38.588
23.902
41
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_3_deg
16.083
15
174
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_4_deg
15.503
15
5
X-RAY DIFFRACTION
r_chiral_restr
0.127
0.2
139
X-RAY DIFFRACTION
r_gen_planes_refined
0.01
0.021
713
LS精密化 シェル
解像度: 1.479→1.517 Å / Total num. of bins used: 20
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.434
71
-
Rwork
0.386
1258
-
obs
-
-
87.55 %
精密化 TLS
手法: refined / Origin x: 17.5796 Å / Origin y: 1.3917 Å / Origin z: -0.309 Å