モノクロメーター: SI 220 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.8 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.43→50 Å / Num. obs: 115873 / % possible obs: 94.1 % / Observed criterion σ(I): 2
反射 シェル
解像度: 1.43→1.48 Å / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.456 / Mean I/σ(I) obs: 3.04 / % possible all: 68.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SERGUI
データ収集
PHASER
位相決定
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.44→37.6 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.08 / ESU R Free: 0.084 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24045
5780
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20257
-
-
-
obs
0.20448
108413
94.83 %
-
all
-
117040
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK