モノクロメーター: double crystal / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9794 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.78→27.6 Å / Num. all: 46112 / Num. obs: 46112 / % possible obs: 97.7 % / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.065 / Net I/σ(I): 18
反射 シェル
解像度: 1.78→1.81 Å / % possible all: 99.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SBC-Collect
データ収集
MOLREP
位相決定
CCP4
モデル構築
REFMAC
5.7.0029
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
CCP4
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.78→27.55 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.95 / SU B: 2.061 / SU ML: 0.066 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.107 / ESU R Free: 0.108 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19622
2103
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.16192
-
-
-
obs
0.16381
39438
87.97 %
-
all
-
41541
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK