タイプ: MAR scanner 345 mm plate / 検出器: IMAGE PLATE / 日付: 2008年2月12日 / 詳細: MONTEL MIRRORS
放射
モノクロメーター: Montel mirrors / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.54→30 Å / Num. obs: 61073 / % possible obs: 92.1 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.2 % / Biso Wilson estimate: 17.883 Å2 / Rsym value: 0.025 / Net I/σ(I): 31.09
反射 シェル
解像度: 1.55→1.6 Å / 冗長度: 3.01 % / Mean I/σ(I) obs: 10.67 / Rsym value: 0.113 / % possible all: 84.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
MAR345dtb
データ収集
XDS
データスケーリング
XSCALE
データスケーリング
Coot
モデル構築
HKL2Map
モデル構築
SHELXCD
位相決定
ARP/wARP
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.54→19.69 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.973 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.958 / SU B: 1.023 / SU ML: 0.038 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.08 / ESU R Free: 0.08 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16533
1566
5 %
RANDOM
Rwork
0.13205
-
-
-
obs
0.13373
29747
91.97 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK