プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.52 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 4.5 % / Av σ(I) over netI: 10.5 / 数: 154132 / Rsym value: 0.051 / D res high: 1.65 Å / D res low: 19.561 Å / Num. obs: 34360 / % possible obs: 99.3
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Rsym value
Redundancy
5.22
19.56
98.1
1
0.028
0.028
4.3
3.69
5.22
99.9
1
0.03
0.03
4.6
3.01
3.69
100
1
0.036
0.036
4.7
2.61
3.01
99.9
1
0.044
0.044
4.7
2.33
2.61
99.9
1
0.054
0.054
4.7
2.13
2.33
100
1
0.063
0.063
4.7
1.97
2.13
99.9
1
0.085
0.085
4.6
1.84
1.97
99.9
1
0.124
0.124
4.6
1.74
1.84
99.8
1
0.191
0.191
4.5
1.65
1.74
96.5
1
0.271
0.271
3.7
反射
解像度: 1.65→19.561 Å / Num. all: 34602 / Num. obs: 34360 / % possible obs: 99.3 % / 冗長度: 4.5 % / Biso Wilson estimate: 16.2 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.051 / Rsym value: 0.051 / Net I/σ(I): 17.9
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. measured all
Num. unique all
Rsym value
% possible all
1.65-1.74
3.7
0.271
2.9
17555
4769
0.271
96.5
1.74-1.84
4.5
0.191
4.1
21059
4700
0.191
99.8
1.84-1.97
4.6
0.124
6.2
20447
4440
0.124
99.9
1.97-2.13
4.6
0.085
8.9
19102
4126
0.085
99.9
2.13-2.33
4.7
0.063
11.6
17980
3837
0.063
100
2.33-2.61
4.7
0.054
13.2
16365
3470
0.054
99.9
2.61-3.01
4.7
0.044
14.5
14549
3098
0.044
99.9
3.01-3.69
4.7
0.036
16.9
12282
2629
0.036
100
3.69-5.22
4.6
0.03
18.6
9599
2091
0.03
99.9
5.22-19.561
4.3
0.028
16.7
5194
1200
0.028
98.1
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Rfactor: 53.09 / Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
解像度: 1.65→19.56 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.957 / WRfactor Rfree: 0.1748 / WRfactor Rwork: 0.1452 / FOM work R set: 0.9046 / SU B: 2.693 / SU ML: 0.05 / SU R Cruickshank DPI: 0.0853 / SU Rfree: 0.0855 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.085 / ESU R Free: 0.086 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1817
1726
5 %
RANDOM
Rwork
0.1503
-
-
-
all
0.1519
34568
-
-
obs
0.1519
34298
99.22 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK