プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.1272 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.62→39.3 Å / Num. obs: 32205 / % possible obs: 96 %
反射 シェル
解像度: 1.62→1.65 Å / 冗長度: 2 % / Rmerge(I) obs: 0.032 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 93.9
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
最高解像度
最低解像度
Rotation
2.5 Å
37.48 Å
Translation
2.5 Å
37.48 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
SCALEPACK
データスケーリング
PHASER
2.3.0
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.62→39.27 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.948 / WRfactor Rfree: 0.2382 / WRfactor Rwork: 0.1951 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / FOM work R set: 0.8482 / SU B: 1.955 / SU ML: 0.068 / SU R Cruickshank DPI: 0.1003 / SU Rfree: 0.1007 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.1 / ESU R Free: 0.101 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT U VALUES : REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2244
1625
5 %
RANDOM
Rwork
0.1887
-
-
-
obs
0.1906
32205
96.2 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK