プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.92→98.8912 Å / Num. all: 138475 / Num. obs: 41581 / % possible obs: 99 % / 冗長度: 3.3 % / Biso Wilson estimate: 18.8 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.089 / Net I/σ(I): 11.3
反射 シェル
解像度: 1.92→2.02 Å / 冗長度: 3.3 % / Rmerge(I) obs: 0.505 / Mean I/σ(I) obs: 3.5 / Num. unique all: 6035 / % possible all: 99.2
-
解析
ソフトウェア
名称: REFMAC / バージョン: 5.5.0102 / 分類: 精密化
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.92→98.8912 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.955 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.924 / SU B: 3.522 / SU ML: 0.103 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.16 / ESU R Free: 0.155 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22892
2093
5 %
RANDOM
Rwork
0.17061
-
-
-
obs
0.17357
39468
98.89 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK