解像度: 1.6→50 Å / Num. obs: 107774 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 13.2 % / Rmerge(I) obs: 0.107 / Χ2: 1.003 / Net I/σ(I): 8.4
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
1.6-1.63
11.6
0.995
5124
1
1
96.1
1.63-1.66
11.8
0.952
5256
0.999
1
98.2
1.66-1.69
12.1
0.732
5298
1.011
1
99.5
1.69-1.72
12.5
0.682
5335
1.007
1
99.8
1.72-1.76
12.9
0.664
5401
1.007
1
100
1.76-1.8
13
0.587
5323
1.009
1
100
1.8-1.85
13.1
0.444
5365
1.008
1
100
1.85-1.9
13.1
0.391
5394
1.029
1
100
1.9-1.95
13.2
0.281
5381
0.995
1
100
1.95-2.02
13.4
0.234
5352
0.97
1
100
2.02-2.09
13.5
0.197
5392
0.959
1
100
2.09-2.17
13.6
0.17
5378
0.965
1
100
2.17-2.27
13.6
0.16
5395
1.059
1
100
2.27-2.39
13.7
0.158
5404
1.135
1
100
2.39-2.54
13.7
0.156
5398
1.2
1
100
2.54-2.74
13.8
0.147
5427
1.171
1
100
2.74-3.01
13.8
0.121
5452
1.022
1
100
3.01-3.45
13.9
0.076
5449
0.774
1
100
3.45-4.34
13.8
0.059
5535
0.877
1
100
4.34-50
13.3
0.06
5715
0.876
1
99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
SCALEPACK
データスケーリング
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
HKL-2000
データ削減
SHELXS
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.6→31.26 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / WRfactor Rfree: 0.2306 / WRfactor Rwork: 0.2129 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.3 / FOM work R set: 0.8014 / SU B: 3.749 / SU ML: 0.062 / SU R Cruickshank DPI: 0.0193 / SU Rfree: 0.0184 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.019 / ESU R Free: 0.018 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: U VALUES : WITH TLS ADDED HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.221
5372
5 %
RANDOM
Rwork
0.203
-
-
-
obs
0.204
107668
99.6 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK