解像度: 1.6→50 Å / Num. obs: 108623 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 6.8 % / Rmerge(I) obs: 0.104 / Χ2: 1.017 / Net I/σ(I): 9.2
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
1.6-1.63
7.1
0.937
5352
1.076
1
100
1.63-1.66
7.1
0.838
5385
1.068
1
100
1.66-1.69
7
0.687
5349
1.058
1
100
1.69-1.72
7.1
0.587
5355
1.068
1
100
1.72-1.76
7
0.523
5377
1.073
1
100
1.76-1.8
7
0.457
5377
1.076
1
100
1.8-1.85
6.9
0.352
5376
1.053
1
100
1.85-1.9
6.9
0.302
5401
1.034
1
99.9
1.9-1.95
6.8
0.232
5380
0.998
1
100
1.95-2.02
6.9
0.19
5380
0.974
1
100
2.02-2.09
6.7
0.155
5412
0.925
1
99.9
2.09-2.17
6.7
0.133
5398
0.904
1
99.9
2.17-2.27
6.7
0.118
5412
0.88
1
99.9
2.27-2.39
6.6
0.11
5407
0.905
1
99.9
2.39-2.54
6.6
0.117
5456
1.048
1
99.9
2.54-2.74
6.6
0.122
5460
1.082
1
99.9
2.74-3.01
6.6
0.115
5456
1.073
1
99.9
3.01-3.45
6.7
0.089
5497
1.007
1
99.9
3.45-4.34
6.9
0.059
5575
0.952
1
100
4.34-50
7.3
0.061
5818
1.068
1
99.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
SCALEPACK
データスケーリング
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
HKL-2000
データ削減
SHELXS
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.6→29.39 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.964 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / WRfactor Rfree: 0.2095 / WRfactor Rwork: 0.1923 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.3 / FOM work R set: 0.9094 / SU B: 1.865 / SU ML: 0.034 / SU R Cruickshank DPI: 0.0163 / SU Rfree: 0.0157 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.016 / ESU R Free: 0.016 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: U VALUES : WITH TLS ADDED HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.196
5414
5 %
RANDOM
Rwork
0.1804
-
-
-
obs
0.1812
108441
99.93 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK