モノクロメーター: Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9999 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→64.119 Å / Num. all: 22985 / Num. obs: 22985 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 5.5 % / Rsym value: 0.086 / Net I/σ(I): 9.8
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. measured all
Num. unique all
Rsym value
% possible all
1.6-1.69
5.5
0.781
1
18307
3311
0.781
100
1.69-1.79
5.5
0.49
1.5
17480
3157
0.49
100
1.79-1.91
5.6
0.293
2.6
16412
2953
0.293
100
1.91-2.07
5.6
0.168
4.3
15335
2760
0.168
100
2.07-2.26
5.5
0.114
6
13995
2538
0.114
100
2.26-2.53
5.5
0.094
6.9
12834
2335
0.094
100
2.53-2.92
5.4
0.081
7.8
11084
2042
0.081
100
2.92-3.58
5.4
0.076
7.9
9357
1748
0.076
99.9
3.58-5.06
5.3
0.065
9
7289
1374
0.065
99.9
5.06-45.259
4.9
0.06
9.1
3721
767
0.06
96.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
SCALA
3.3.9
データスケーリング
PHENIX
1.8_1069
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
XDS
データスケーリング
XDS
データ削減
Arcimboldo
位相決定
精密化
構造決定の手法: AB INITIO PHASING / 解像度: 1.6→25.629 Å / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.42 / FOM work R set: 0.7837 / SU ML: 0.18 / σ(F): 1.34 / 位相誤差: 27.98 / 立体化学のターゲット値: ML
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2373
1178
5.13 %
random
Rwork
0.1869
-
-
-
obs
0.1896
22971
99.85 %
-
溶媒の処理
減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.11 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL