冗長度: 4.2 % / Av σ(I) over netI: 21.81 / 数: 322959 / Rmerge(I) obs: 0.074 / Χ2: 1.38 / D res high: 2.5 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 77562 / % possible obs: 99.9
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
6.78
50
99
1
0.033
2.447
4.3
5.38
6.78
100
1
0.047
1.794
4.2
4.7
5.38
100
1
0.048
1.825
4.1
4.27
4.7
100
1
0.056
2.278
4.2
3.97
4.27
99.9
1
0.068
2.185
4.2
3.73
3.97
100
1
0.079
1.959
4.2
3.55
3.73
100
1
0.091
1.599
4.2
3.39
3.55
100
1
0.111
1.426
4.2
3.26
3.39
100
1
0.144
1.27
4.2
3.15
3.26
100
1
0.183
1.167
4.2
3.05
3.15
100
1
0.238
1.084
4.2
2.96
3.05
100
1
0.308
1.051
4.2
2.89
2.96
100
1
0.403
1.007
4.2
2.82
2.89
100
1
0.472
0.96
4.1
2.75
2.82
100
1
0.638
0.94
4.1
2.69
2.75
100
1
0.75
0.929
4.1
2.64
2.69
100
1
0.894
0.91
4.1
2.59
2.64
100
1
0.904
4.1
2.54
2.59
100
1
0.91
4.1
2.5
2.54
100
1
0.893
4.1
反射
解像度: 2.5→50 Å / Num. obs: 77562 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 4.2 % / Rmerge(I) obs: 0.074 / Χ2: 1.382 / Net I/σ(I): 9.2
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
Rmerge(I) obs
2.5-2.54
4.1
3903
0.893
1
100
2.54-2.59
4.1
3834
0.91
1
100
2.59-2.64
4.1
3927
0.904
1
100
2.64-2.69
4.1
3880
0.91
1
100
0.894
2.69-2.75
4.1
3854
0.929
1
100
0.75
2.75-2.82
4.1
3888
0.94
1
100
0.638
2.82-2.89
4.1
3855
0.96
1
100
0.472
2.89-2.96
4.2
3900
1.007
1
100
0.403
2.96-3.05
4.2
3858
1.051
1
100
0.308
3.05-3.15
4.2
3903
1.084
1
100
0.238
3.15-3.26
4.2
3888
1.167
1
100
0.183
3.26-3.39
4.2
3873
1.27
1
100
0.144
3.39-3.55
4.2
3870
1.426
1
100
0.111
3.55-3.73
4.2
3892
1.599
1
100
0.091
3.73-3.97
4.2
3877
1.959
1
100
0.079
3.97-4.27
4.2
3848
2.185
1
99.9
0.068
4.27-4.7
4.2
3902
2.278
1
100
0.056
4.7-5.38
4.1
3880
1.825
1
100
0.048
5.38-6.78
4.2
3869
1.794
1
100
0.047
6.78-50
4.3
3861
2.447
1
99
0.033
-
位相決定
位相決定
手法: 多波長異常分散
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
SCALEPACK
データスケーリング
SHELX
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
CBASS
データ収集
HKL-3000
データ削減
SHELXD
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.5→19.98 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.953 / WRfactor Rfree: 0.2151 / WRfactor Rwork: 0.1614 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / FOM work R set: 0.8324 / SU B: 18.07 / SU ML: 0.189 / SU R Cruickshank DPI: 0.3263 / SU Rfree: 0.2421 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.326 / ESU R Free: 0.242 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: U VALUES : WITH TLS ADDED HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2312
2034
5 %
RANDOM
Rwork
0.177
-
-
-
obs
0.1797
40461
99.69 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK