タイプ: MARMOSAIC 225 mm CCD / 検出器: CCD / 日付: 2010年4月19日 / 詳細: bent collimating mirror and toroid
放射
モノクロメーター: Si(III) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9786 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.45→50 Å / Num. obs: 53936 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 15.4 % / Biso Wilson estimate: 29.5 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.075 / Net I/σ(I): 49.3
反射 シェル
解像度: 2.45→2.49 Å / 冗長度: 13.1 % / Rmerge(I) obs: 0.199 / Mean I/σ(I) obs: 14 / Num. unique all: 2512 / % possible all: 93.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
PHENIX-AUTOSOL
モデル構築
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHENIX-AUTOSOL
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.45→45.54 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.93 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.896 / SU B: 15.684 / SU ML: 0.202 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.728 / ESU R Free: 0.286 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24115
1471
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19277
-
-
-
obs
0.19534
27528
99.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK