プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97375 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.4→56.5 Å / Num. obs: 12935 / % possible obs: 99.7 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 4.1 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 16.7
反射 シェル
解像度: 2.4→2.49 Å / 冗長度: 4.2 % / Rmerge(I) obs: 0.63 / Mean I/σ(I) obs: 2.3 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.4→56.52 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.921 / SU B: 11.263 / SU ML: 0.256 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.614 / ESU R Free: 0.297 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26283
565
5.3 %
RANDOM
Rwork
0.20665
-
-
-
obs
0.20971
10038
99.63 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK