プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97874 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.54→36.33 Å / Num. obs: 59949 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 16.6 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 21.9
反射 シェル
解像度: 1.54→1.63 Å / 冗長度: 16.5 % / Rmerge(I) obs: 0.4 / Mean I/σ(I) obs: 7 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELX
CDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.54→19.96 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.956 / SU B: 1.254 / SU ML: 0.047 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.074 / ESU R Free: 0.075 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18893
3022
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.16085
-
-
-
obs
0.16224
56805
99.92 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK