プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9788 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.6→50 Å / Num. obs: 28216 / % possible obs: 99.1 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 2.86 % / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 10.9
反射 シェル
解像度: 2.6→2.7 Å / 冗長度: 2.37 % / Rmerge(I) obs: 0.63 / Mean I/σ(I) obs: 1.7 / % possible all: 99.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0116
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELXD
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.6→87.54 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.938 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.906 / SU B: 9.404 / SU ML: 0.199 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.489 / ESU R Free: 0.29 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25087
1428
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20532
-
-
-
obs
0.20761
26788
99.89 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK