プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.84→44.5 Å / Num. obs: 14005 / % possible obs: 97 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.1 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 37
反射 シェル
解像度: 1.84→1.9 Å / 冗長度: 2.3 % / Rmerge(I) obs: 0.1 / Mean I/σ(I) obs: 11 / % possible all: 85
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.84→44.55 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.946 / SU B: 2.683 / SU ML: 0.083 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.151 / ESU R Free: 0.135 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1954
678
5 %
RANDOM
Rwork
0.14983
-
-
-
obs
0.15208
12950
97.38 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK