プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.84→44.5 Å / Num. obs: 12277 / % possible obs: 92 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 2.4 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 38.7
反射 シェル
解像度: 1.84→1.9 Å / 冗長度: 1.7 % / Rmerge(I) obs: 0.1 / Mean I/σ(I) obs: 16.8 / % possible all: 75.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.84→44.52 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.937 / SU B: 2.721 / SU ML: 0.084 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.158 / ESU R Free: 0.144 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19784
645
5 %
RANDOM
Rwork
0.14261
-
-
-
obs
0.14539
12277
92.27 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK