由来: シンクロトロン / サイト: MAX II / ビームライン: I911-3 / 波長: 1
検出器
タイプ: MARMOSAIC 225 mm CCD / 検出器: CCD / 日付: 2013年2月1日 / 詳細: RH-COATED TOROIDAL SI MIRROR
放射
モノクロメーター: DOUBLE CRYSTAL SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→39.8 Å / Num. obs: 12042 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 1.8 / 冗長度: 13.8 % / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 15.4
反射 シェル
解像度: 2.1→2.21 Å / 冗長度: 13.9 % / Rmerge(I) obs: 0.17 / Mean I/σ(I) obs: 5.7 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.1→33.23 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.956 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.936 / SU B: 5.32 / SU ML: 0.142 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.253 / ESU R Free: 0.188 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2261
572
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.18999
-
-
-
obs
0.19173
11437
99.96 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK