プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.10481 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→30 Å / Num. obs: 74731 / % possible obs: 98.9 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 5 % / Biso Wilson estimate: 12.84 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 17.5
反射 シェル
解像度: 1.8→1.9 Å / 冗長度: 4.8 % / Rmerge(I) obs: 0.38 / Mean I/σ(I) obs: 4 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.8→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / SU B: 1.934 / SU ML: 0.061 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.102 / ESU R Free: 0.099 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17259
3764
5 %
RANDOM
Rwork
0.13875
-
-
-
obs
0.14049
70875
98.83 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK