プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97239 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.61→55 Å / Num. obs: 27769 / % possible obs: 99.2 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 4.3 % / Biso Wilson estimate: 23.41 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 0
反射 シェル
解像度: 1.61→1.7 Å / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.38 / % possible all: 99.3
-
解析
ソフトウェア
名称: REFMAC / バージョン: 5.5.0102 / 分類: 精密化
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.61→25 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.955 / SU B: 3.784 / SU ML: 0.059 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.095 / ESU R Free: 0.095 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21164
1398
5 %
RANDOM
Rwork
0.17788
-
-
-
obs
0.17955
26359
98.93 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK