プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.8123 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.95→48.38 Å / Num. obs: 116568 / % possible obs: 98.7 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3 % / Biso Wilson estimate: 17.6 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 7.6
反射 シェル
解像度: 1.95→2.06 Å / 冗長度: 3 % / Rmerge(I) obs: 0.24 / Mean I/σ(I) obs: 3.3 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.95→47.43 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.937 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.915 / SU B: 3.199 / SU ML: 0.091 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.143 / ESU R Free: 0.133 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21631
5790
5 %
RANDOM
Rwork
0.18333
-
-
-
obs
0.18498
110560
98.43 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK