プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97946 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→36.71 Å / Num. obs: 40017 / % possible obs: 97.9 % / 冗長度: 3.6 % / Rmerge(I) obs: 0.03 / Net I/σ(I): 31.58
反射 シェル
解像度: 1.7→1.8 Å / 冗長度: 3.1 % / Rmerge(I) obs: 0.13 / Mean I/σ(I) obs: 7.9 / % possible all: 91.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: IN-HOUSE CK2 APO STRUCTURE 解像度: 1.7→36.71 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.962 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.945 / SU B: 1.839 / SU ML: 0.062 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.1 / ESU R Free: 0.101 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20184
2000
5 %
RANDOM
Rwork
0.16444
-
-
-
obs
0.16636
38012
97.99 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK