プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9798 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.95→45.79 Å / Num. obs: 73908 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.1 / Net I/σ(I): 10.5
反射 シェル
解像度: 1.95→2.06 Å / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.36 / Mean I/σ(I) obs: 3.9 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
iMOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.95→137.37 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.922 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.899 / SU B: 5.404 / SU ML: 0.09 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.14 / ESU R Free: 0.136 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. DISORDERED ATOMS WERE REMOVED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24913
3716
5 %
RANDOM
Rwork
0.21578
-
-
-
obs
0.21745
70050
99.48 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK