モノクロメーター: SI111 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→43.77 Å / Num. obs: 150144 / % possible obs: 91.8 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 19.4
反射 シェル
解像度: 1.6→1.69 Å / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.27 / Mean I/σ(I) obs: 4.1 / % possible all: 93.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
HKL2Map
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.6→84.22 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.953 / SU B: 1.445 / SU ML: 0.051 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.085 / ESU R Free: 0.086 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18508
7525
5 %
RANDOM
Rwork
0.15194
-
-
-
obs
0.15363
142614
95.67 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK